氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)是什么
氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)是什么
氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料,也可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理,或以三氯甲硅烷(MTS)為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。
裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)如下:
1.多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無沉積死角,沉積效果好;
2.采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍小;
3.氣相沉積爐設(shè)備自動(dòng)化高,關(guān)鍵執(zhí)行電氣件采用進(jìn)口;操作直觀、簡(jiǎn)便,觸摸屏經(jīng)過開發(fā),可動(dòng)態(tài)顯示爐子運(yùn)行狀況并具有自我診斷功能,程序段可直接輸入。
4.采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng)。
免責(zé)聲明:本站部分圖片和文字來源于網(wǎng)絡(luò)收集整理,僅供學(xué)習(xí)交流,版權(quán)歸原作者所有,并不代表我站觀點(diǎn)。本站將不承擔(dān)任何法律責(zé)任,如果有侵犯到您的權(quán)利,請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系我們刪除。
相關(guān)推薦